Optolong H-Alpha 7nm 2" (50.8mm) v.2
Filtro H-Alpha a banda stretta 7nm
Riduce la trasmissione di determinate lunghezze d'onda della luce, soprattutto quelle prodotte dalla luce artificiale. E' la miglior scelta per rivelare i sottili dettagli delle nebulose.
Il filtro H-ALPHA 7nm è il filtro a banda stretta più popolare che consente una larghezza di banda di 7nm centrata su una lunghezza d’onda di 656nm e riduce la trasmissione di determinate lunghezze d’onda della luce, in particolare quelle prodotte dalla luce artificiale, inclusi i vapori di mercurio, lampade a vaporio di sodio sia a bassa che alta pressione e la luce naturale indesiderata causata dall’emissione di ossigeno neutro nella nostra atmosfera (ad esempio Skyglow).
Il filtro per astrofotografia H-ALPHA rimane la miglior scelta per il contrasto più elevato e per rivelare i sottili dettagli nella nebulosa.
Utilizzo principale e prestazioni
Adatto per la visualizzazione di nebulose a bassa emissione nelle righe dell’ H-ALPHA in condizioni di chiaro di Luna o di forte inquinamento luminoso.
L’imaging a banda stretta può essere realizzato combinando i filtri del set SHO (H-ALPHA,OIII,SII), in condizioni di Luna e inquinamento luminoso, in questo modo l’attrezzatura non rimane ferma per settimane.
Il filtro H-ALPHA è il primo filtro che viene solitamente aggiunto al KIT LRGB dalla maggior parte degli astrofotografi, in questo modo fondono l’immagine in bianco e nero con i dati RGB per ottenere e migliorare i dettagli strutturali mantenendo un aspetto naturale dell’immagine.
Il filtro H-ALPHA non elimina gli effetti dell’inquinamento luminoso e non aumenta la luminosità dell’oggetto ripreso, bensi aumenta il contrasto tra nebulosa e cielo notturno, rendendo più facile l’elaborazione dell’immagine.
Questo filtro H-ALPHA 7nm a banda stretta è concepito per essere utilizzato nelle ruote portafiltri, nei cassetti portafiltri oppure direttamente sulle camere di ripresa (non valido per quelli non montati in cella)
Caratteristiche tecniche
Technical Data
- Schott substrate material
- Thickness 2.0 mm (1.25”/2”/36 mm)
- Thickness 1.0 mm (Clip series)
- Surface Quality: 60/40 (Refer to MIL-O-13830)
- Fine-optically polished to ensure accurate 1/4 wavefront and <30 seconds parallelism over both surfaces
- 80-percent transmission at the h-alpha line 656 nm infrared wavelength 700 to 1100 nm cut-off
- 0.1-percent transmission of off-band, specifically major emission lines artificial light pollution (i.e. Na 589 nm, Hg 435 nm, and 578 nm). Transmission of 0.1-percent is equivalent to OD3 (Optical Density), and high optical density value indicates very low transmission, and low optical density indicates high transmission.
Coating Parameter
- Non-cementing optical substrate coating
- Electron-beam gun evaporation with low Ion-assisted deposition coating technology for durability and resistance to scratching, as well as stability on CWL (central wavelength) no deviation affected by temperature change
- Planetary rotation system offers precision and homogeneity of coatings ensuring high value on tansmission of pass-band and Optical density of off-band
Filter Cell:
- Ultra-this filter cell minimize vignetting by maximuizing possible clear aperture (clear aperture is 26 mm for 1.25-inch, 45 mm for 2-inch)
- Aero-metal Material/ Precise CNC Machinging/ Sand Blasting Process/ Black Anodized Finish/ Extinction Treatment to Prevent Reflection/ Laser Engraving No Fading